国家知识产权局信息显示,亿高应用材料股份有限公司申请一项名为“低辐射易洁玻璃制作方法及其低辐射易洁玻璃、低辐射易洁复层玻璃”的专利,公开号CN121270112A,申请日期为2024年9月。
专利摘要显示,一种低辐射易洁玻璃制作方法及其低辐射易洁玻璃、低辐射易洁复层玻璃。该低辐射易洁玻璃制作方法,包含:利用射频溅射氧化硅靶材,同时通入气体氮,且同时利用直流溅射银靶材,以混镀沉积一掺氮氧化硅银于一清玻璃基层。借此,该低辐射易洁玻璃能在避免氧化问题的同时,提高导电度、硬度、水滴角,且降低半球辐射率。
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来源:市场资讯