中芯国际申请版图修正方法专利，使得整个修正过程具有效率高的特点_家具选购

中芯国际申请版图修正方法专利，使得整个修正过程具有效率高的特点

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2026-02-01 01:26:00

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国家知识产权局信息显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司申请一项名为“版图的修正方法、装置、电子设备及存储介质”的专利，公开号CN121437600A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种版图的修正方法、装置、电子设备及存储介质。该方法通过获取第一初始版图和第二初始版图；第二初始版图用于对第一初始版图成型的图形进行分割；确定第一初始版图中第一目标区域的尺寸信息；第一目标区域为第一初始版图中至少一个相对侧邻接有图形的端部的无图形区；当第一目标区域的尺寸信息满足预设尺寸条件时，基于第一目标区域的相对侧邻接的图形对第一目标区域进行图形补齐处理，以使得到的第一目标版图中的第一目标区域的相对侧邻接的图形的端部能够连接形成连续图形；后续将第二初始版图上的第一目标区域对应的第二目标区域修正为图形区域，得到第二目标版图。使得整个修正过程具有效率高的特点。

天眼查资料显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目129次，财产线索方面有商标信息150条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可446个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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