四元数半导体取得双面同时曝光机高精密对位结构专利，便于将曝光板材放置在框式放料平台的两侧
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2025-12-08 18:22:12
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国家知识产权局信息显示，深圳市四元数半导体有限公司取得一项名为“一种用于双面同时曝光机高精密对位结构”的专利，授权公告号CN223637888U，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本实用新型涉及对位技术领域，特别涉及一种用于双面同时曝光机高精密对位结构，包括：安装总成；驱动部分，所述驱动部分在所述安装总成上滑动；驱动台，所述驱动台设置在所述驱动部分的下方；框式放料平台，所述框式放料平台固定连接在所述驱动台的一侧，且由所述驱动台将框式放料平台在0到90度之间旋转使用时，在将曝光材料放置在框式放料平台时，驱动装置将驱动台驱动旋转90度后，曝光区域处在竖直状态，这样便于将曝光板材放置在框式放料平台的两侧，在框式放料平台回复至水平状态时，联动件在驱动台的作用下，能够轴向移动，进而联动件移动的过程中，同时使四个卡角件沿着对角线的位置上移动，进而可以使得两侧的板材被卡角件卡紧。
天眼查资料显示，深圳市四元数半导体有限公司，成立于2022年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市四元数半导体有限公司专利信息5条，此外企业还拥有行政许可2个。
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来源：市场资讯
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