国家知识产权局信息显示,重庆莱宝科技有限公司申请一项名为“一种宽光谱抗反射膜层及其制备方法”的专利,公开号CN121522786A,申请日期为2026年1月。
专利摘要显示,本发明涉及光学薄膜技术领域,具体涉及一种宽光谱抗反射膜层及其制备方法。一种宽光谱抗反射膜层,包括依次层叠设置的第一高折射材料层、第一低折射材料层、第二高折射材料层、第二低折射材料层、第三高折射材料层和第三低折射材料层,宽光谱抗反射膜层的总厚度在200nm以上;各材料层的厚度依次为10~12nm、30~35nm、25~35nm、15~25nm、25~30nm和90~100nm。本发明的宽光谱抗反射膜层,高折射率材料层和低折射率材料层的交替设置,各层的适宜厚度相互配合,使触摸屏的光线经过光的干涉相消,可有效降低玻璃表面的反射率,使反射膜层在宽光谱中具有超低总成反射率。
天眼查资料显示,重庆莱宝科技有限公司,成立于2011年,位于重庆市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析,重庆莱宝科技有限公司参与招投标项目21次,专利信息178条,此外企业还拥有行政许可64个。
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来源:市场资讯